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光刻机、上海微电子、华为、突破……这些令中国人振奋的字眼，出现在国网的一条消息中，你品、你细品！据新华网7月31日消息，上海微电子正致力于研发28纳米浸没式光刻机，预计在2023年年底将国产第一台SSA/800-10W光刻机设备交付市场。这条消息还透露，国家知识产权局此前公布了一项华为新的专利“反射镜、光刻装置及其控制方法”，在极紫外线光刻机核心技术上取得突破性进展。图纸给你们，也未必做得出

光刻机又名掩模对准曝光机，被称为“半导体工业皇冠上的明珠”，是半导体产业链中最精密的设备，是制造芯片的核心装备。光刻机技术有多难？业界有形象的比喻，用光在晶圆上画图，相当于两架客机齐头并进，一架机翼上挂一把刀，另一架飞机上粘一颗米粒，用刀在米粒上刻字。目前，全球能生产光刻机的厂商寥寥无几，荷兰阿斯麦、日本尼康和佳能占据了主要市场。其中，阿斯麦技术最为领先，它是唯一能生产极紫外线光刻机的厂家，这种光刻机可实现7纳米甚至5纳米工艺。阿斯麦第一大股东是美国资本国际集团，第二大股东是美国的黑岩集团。中国在光刻机技术方面曾站在世界“第一方阵”，1965年研制出了65型接触式光刻机，1985年研制出的分步光刻机样机，当时与国外先进水平差距不超过7年，但此后，我国开始从国外购买光刻机。自20世纪90年代起，阿斯麦等国外企业却迅速崛起。眼下，我国光刻机产业处处被“卡脖子”。“卡脖子”的难点主要在两处：一是光源，光刻机要求体系小、功率高而稳定的光源；二是镜片，为了让光线能够精确地照射到硅片上刻画出微小的图案，需要一系列高精度和高光滑度的镜片来聚焦和校准光线。光刻机核心技术取得重大突破

日前，新华网罕见的发布了一篇《国产光刻机如何突围？》的文章，从目前的进度来看，国产光刻机比预想要快，也最终能成，留给ASML的时间不多了。新华网这则消息透露，上海微电子正致力于研发28纳米浸没式光刻机，预计在2023年年底将国产第一台SSA/800-10W光刻机设备交付市场。而此前华为的一项最新专利，在极紫外光刻机核心技术上取得突破性进展。这是官媒公布的消息，信源肯定靠谱。其次，上海微电子可以生产28纳米光刻机，意味着我们解决了从0到1的问题；华为的“反射镜、光刻装置及其控制方法”，则可以让我们在极紫外线光刻机领域实现从1到100的发展。从关键信息来看，是纯国产28nm沉浸式光刻机将于年底交付。事实上，28nm光刻机和28nm芯片是不同的，28nm光刻机能造出的芯片远远不止28nm。芯片是芯片，光刻机是光刻机，对于28nm光刻机而言，最高是可以制造出7nm芯片的。28纳米工艺是半导体制造中的重要里程碑，代表着半导体芯片的制造工艺水平向着更加先进的方向迈进。此次上海微电子的突破将意味着中国半导体产业跨越了技术壁垒，有望进一步提升国产芯片的竞争力，加速中国半导体产业的本土化发展。华为作为全球知名的通信设备制造商，近年来也积极涉足半导体产业，据最新消息，华为在极紫外光刻技术方面取得了重大突破，极紫外光刻技术是半导体制造中的核心技术之一，它能够实现更高的分辨率和更复杂的芯片设计，因此被视为半导体制造工艺的未来发展方向。华为的技术突破意味着中国半导体产业将拥有更加完备的工艺链条，有望在高端芯片领域取得更多突破。这对于中国半导体产业而言是一个重要的里程碑，将有力推动中国半导体产业实现从追赶到领先的跨越。中国光刻机产业为何能成？

国内的芯片产业、光刻机产业，外界的环境与态度都在发生微妙的变化，也不应该过度乐观，不管外界是封锁还是解禁，都要按照自己的节奏去布局。光刻机有10万多零件，这就是个系统工程，各方分工协作，由点及面，可以产生巨大连锁效应。比如哈工大的激光干涉仪，可以用来检测光刻机的精度和稳定性。也可以用来测量微细结构的尺寸和形状，如微电子器件、光学元件等，还可以应用于其他领域。因此，光刻机的突破的意义不仅仅在于应用于消费电子领域，还可以应用到光学仪器、精密机械、生物医学等。对国内的众多行业的技术突破都有重大意义，它是一个链式反应的突破，带动的是众多产业的突围与升级。中国人能把高铁干到4万公里，安全可靠，性能领先，除了中国哪个国家现在能做到？中国能在他国封锁技术的情况下，把盾构机做到全球第一，能把空间站送上太空安全运行，能建成世界上最大的水力发电站，并且能保证安全运行这些巨型高科技设备，这世界上哪个国家能做到？中国单独把光伏产业做到世界第一，在电动汽车上把发展了上百年的燃油车干到被面临淘汰的危险境地，除了中国又有哪个国家单独做到？光刻机是集合了全球的顶尖科技的产物，但同样不代表中国不能做到。因为很多的事情，全球没有任何一个国家能做到但中国做到了，只要中国集全国之力，下定决心去做一件事，过去就没有做不到的，而且光刻机这种设备不制裁永远没机会国产替代。但目前外部恰恰创造了这样的机会。光刻机作为一个成熟的机械设备，有非常广大的市场，对于中国的众多产业的升级与安全有重大意义，中国必然需要去攻克，如果是必然需要去攻克的项目，光刻机的突破只是国内众多产业升级过程的中的必然结果。中国的进度之所以比预想中快，在于国内的制造业全产业链的布局对尖端设备的制造与研发有推动作用，中国的制造业产业集群优势是其他任何国家所没有的，国人工作的效率是其他国家的3～5倍！成本比其他国家低50%以上。尤其在中国举国体制下要攻克的项目下，又能做到大量资金的持续投入，外部打压又形成了自主攻克的共识，有最大的消费电子市场作为支撑，并在吸引全球人才、资本以及国内外大量理工科学生进入该行业，从目前的进度与节奏来看，半导体产业的突破差的只是时间。

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